第291章 半导体提议，光刻厂！(4/9)

给专家院士看？”“没问题。”王逸摆了摆手。“谢谢！”秦主任和蔼一笑，当即拿出星逸xphone1，打开视频录制：“好了，王董，请继续说。”王逸点点头：“众所周知，阿斯麦的EUV光刻机之所以厉害，能做到5纳米以下的芯片制程，就是因为它能制造13.5纳米的极紫外光源，这种光源是未来5纳米以下制程芯片的关键。”“而DUV光刻机的深紫外光源，最多能制造10纳米芯片。通过多重曝光技术，才能量产7纳米，5纳米。甚至5纳米的良品率都不高，成本却不低。至于5纳米以上的4纳米，3纳米，那更不现实，只能靠EUV光刻机的极紫外光源。”“同样，我们本质上需要的不是EUV光刻机，而是13.5纳米的极紫外光源！”“EUV光刻机我们目前造不了，未来难度也很大。但是我们反其道而行，通过其他方式，实现极紫外光源，也能制造出4纳米，3纳米，甚至2纳米，1纳米芯片。”“比如我之前提到的光刻厂！”王逸顿了顿，继续道：“建一个光刻厂，通过粒子对撞，实现极紫外光源，然后通过光刻厂的模式，实现EUV光刻机的效果。”……“当然，我并非半导体专业人士，以上内容只是基于我不成熟的想法，随口一说。”“能不能实现，我就不知道了。若是不能实现，还请各位大佬海涵。”至于能不能实现，他也不知道，但理论上应该可以。前世华清大学的EUV光刻机，就是要走这个路线，完全不同于阿斯麦的技术路线。若是真能实现，直接从根源上避开了阿斯麦的专利。毕竟极紫外光源的产生方式都不一样，也就没有侵犯专利这一说了。国产技术突破的难度，不只是要做出同样的产品和等效的技术，还要避开西方的专利壁垒，采取完全不同的技术路线。这就难上加难了。但即便如此，前世依旧把工业皇冠上的明珠，差点全部摘秃噜皮。秦主任笑着伸出手：“谢谢，你这些观点很重要，我这就上报。无论如何，都很感谢。”“主任言重了，若是我说得不对，你们就当我瞎说，海涵。”“呵呵，那不会。科学的探索本就是知无不言，言无不尽。何况是这么别出心裁的建议，意义重大！”王逸摆了摆手：“不成熟的想法罢了，希望有点参考价值。光刻机这个东西难，光刻胶也难，都得看国家机器了。”秦主任点点头：“放心，光刻胶也是官方大力扶持的领域，