第一一一六章 不同意(2/4)

前沿的光刻机技术落入外国公司手中，反对nikon和asml加入。

    asml为了表现诚意，同意在美国建立一所工厂和一个研发中心，以此满足所有美国本土的产能需求，另外，还保证55%的零部件均从美国供应商处采购，并接受定期审查，做出多项让步后，最后成功加入euv llc，能够享受其基础研究成果，nikon却没有机会加入，失去了同asml竞争的机会。

    几年之后，终于论证了euv的可行性，于是euv llc的使命完成，公司解散，各个成员踏上独自研发之路。

    asml加入euv llc后，享受到的研究成果大大加快了其euv的研发进度，2005年摩尔定律陷入停滞，极紫外光刻技术被认为是制程突破10nm制程工艺的关键，但由于euv光刻机几乎逼近物理学、材料学以及精密制造的极限，光源功率要求极高，透镜和反射镜系统也极致精密，还需要真空环境，配套的抗蚀剂和防护膜的良品率也不高，别说是对日本与荷兰，就算是科技全球第一的美国，举国之力独自突破这项世界最尖端的技术，也是痴人说梦。

    由于技术难度极高，需要巨额的研发资金，尼康和佳能只得选择放弃，彻底沦为中低端光刻机厂商。

    asml成为唯一的候选人！

    asml以23%的股权得到英特尔、三星和台积电的53亿欧元的研发euv光刻机的资金，而这三家客户也因此获得优先供货权。

    asml也成为美国大财团控股的荷兰高科技公司！

    从1997年，英特尔和美国能源部牵头成立euv llc开始，到孙健重生前的2017年，asml才成功量产第一台euv光刻机，集中全球物理学、材料学和精密制造极限的技术成果，还用了整整20年的时间！

    euv光刻机研制成功之难难于上青山不是一句调侃！

    孙健预测再投入1亿美元，汤普森团队就是能研究成功euv，在euv光刻机这种人类技术最复杂的宏伟工程面前，gca即使耗费几十亿美元的研发经费，也不可能独自生产成功，要集中全球最顶尖的